第459章 受伤的台电和阿斯麦!(第1/2 页)
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“星海半导体公布了,已经完成7nm工艺验证!”
“从目前得到的消息,和我们工程师的分析,基本可以确定,星海半导体的‘光刻厂’使用到EUV光源,7nm工艺领先我们两年!”
台电这边已经开始接明年的芯片订单。
台电明年也是7nm工艺。
只不过,台电还没拿到阿斯麦EUV光刻机,手里DUV光刻机的极限,基本就是7nm了。
虽然通过多重曝光等技术,使用DUV光刻机,也能做到更小的支撑工艺。
可多重曝光工艺,每多一次曝光,良品率就会降低,成本会大大提升。
所以台电并没有在多重曝光技术方面多做研究,明年会拿到阿斯麦EUV光刻机,后年就能直接使用EUV光源,可以做7nm、5nm甚至4nm、3nm工艺!!
按照台电原本的计划,明年是DUV的7nm工艺……拿到EUv光刻机之后,后年同样是7nm工艺,属于第二代7nm工艺
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